VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。 VTC-2RF 2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀